Tommy Holmqvist
Forskningsingenjör
Investigation of polymethylmethacrylate resist residues using photoelectron microscopy
Författare
Summary, in English
Avdelning/ar
- Fasta tillståndets fysik
- Kurslaboratoriet för fysik LTH
- Synkrotronljusfysik
- MAX IV-laboratoriet
Publiceringsår
2002
Språk
Engelska
Sidor
1139-1142
Publikation/Tidskrift/Serie
Journal of Vacuum Science & Technology B: Microelectronics and Nanometer Structures
Volym
20
Issue
3
Dokumenttyp
Konferensbidrag
Förlag
American Institute of Physics (AIP)
Ämne
- Physical Sciences
- Natural Sciences
- Condensed Matter Physics
- Atom and Molecular Physics and Optics
Conference name
20th North American Conference on Molecular Beam Epitaxy
Conference date
2001-10-01 - 2001-10-03
Status
Published
ISBN/ISSN/Övrigt
- ISSN: 1520-8567
- ISSN: 1071-1023